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台积电公布A16 1.6nm工艺:对比2nm性能提高10%、功耗降低20%

发布人:金准数据

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台积电在美国举办了“2024年台积电北美技术论坛”,披露其最新的制程技术、先进封装技术、以及三维集成电路(3D IC)技术,凭借此领先的半导体技术来驱动下一代人工智能(AI)的创新。

据了解,台积电在此次的北美技术论坛中,首度公开了台积电A16(1.6nm)技术,结合领先的纳米片晶体管及创新的背面供电(backside power rail)解决方案以大幅提升逻辑密度及性能,预计于2026年量产。

台积电还推出系统级晶圆(TSMC-SoWTM)技术,此创新解决方案带来革命性的晶圆级性能优势,满足超大规模数据中心未来对AI的要求。

台积电指出,适逢台积电北美技术论坛举办30周年,出席贵宾人数从30年前不到100位,增加到今年已超过2,000位。

北美技术论坛于美国加州圣塔克拉拉市举行,为接下来几个月陆续登场的全球技术论坛揭开序幕,本技术论坛亦设置创新专区,展示新兴客户的技术成果。

台积电总裁魏哲家博士指出,我们身处AI赋能的世界,人工智慧功能不仅建置于数据中心,而且也内置于个人电脑、移动设备、汽车、甚至物联网之中。

台积电为客户提供最完备的技术,从全世界最先进的硅芯片,到最广泛的先进封装组合与3D IC平台,再到串连数位世界与现实世界的特殊制程技术,以实现他们对AI的愿景。


文章来源:芯智讯

文章作者:林子

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